中科院成功研发全固态DUV光源技术 突破193nm激光技术

中国科学院的研究人员成功研发出一种突破性的固态深紫外激光,能够发射193纳米的相干光。这种波长的光目前被广泛应用于半导体曝光技术中。

中科院成功研发全固态DUV光源技术

研究人员介绍,深紫外相干光尤其是193纳米波长的光已成为半导体光刻不可或缺的部分。他们提出了一种紧凑型固态纳秒脉冲激光系统,能够在6千赫兹的重复频率下产生193纳米相干光。

该系统通过将自制Yb:YAG晶体放大器中的1030纳米激光的一部分通过四次谐波生成258纳米激光(功率为1.2瓦),其余部分用于泵浦一个光学参量放大器,产生1553纳米激光(功率为700毫瓦)。这些光束在级联LiB3O5晶体中进行频率混合,最终产生平均功率为70毫瓦、线宽小于880兆赫的193纳米激光。通过在频率混合前引入螺旋相位板到1553纳米光束中,研究人员成功生成了携带轨道角动量的涡旋光束。

这是首次从固态激光中产生193纳米涡旋光束的演示。这种光束对于种子混合ArF准分子激光器非常有价值,并在晶圆加工和缺陷检测中具有潜在的应用前景。

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